KIEMELT
Intel: átlépte az egymillió feldolgozott High-NA EUV ostyát a vállalat, érkeznek a 6×12-es fotomaszkok
Meghaladta az egymilliót a High-NA EUV gépekkel feldolgozott szilíciumostyák száma az Intel Foundry laboratóriumaiban és gyártósoraiban – jelentette be a vállalat és az ASML. A technológia a tesztfázisból átlépett a…
